Phòng thí nghiệm Huỳnh quang tia X (XRF)

1. Giới thiệu chung về phòng:

Phòng thí nghiệm quang phổ huỳnh quang tia X (XRF) có chức năng và nhiệm vụ là thực hiện phân tích hóa học (các nguyên tố chính và nguyên tố vết) các loại đá, đất và quặng phục vụ đào tạo và nghiên cứu khoa học. Phòng thí nghiệm còn có chức năng hướng dẫn chuẩn bị mẫu (gia công lát mỏng và nghiền mẫu) phục vụ cho một số phương pháp phân tích khác như (phân tích quang học dưới kính hiển vi hai mắt, XRD, AAS,…)

2. Hệ thống thiết bị

Hệ máy Quang phổ huỳnh quang tia X

Thông số kỹ thuật:

– Model: XRF-1800

– Hãng sản xuất: SHIMADZU

– Ống tia X: Công suất 4kW với cửa sổ mỏng, loại cửa sổ cuối. Tùy chọn: Mục tiêu kép (Rh / Cr, Rh / W)

– Phương pháp điều khiển: Hoàn toàn tự động bằng máy tính, lập trình để tự động khởi động và tắt

– Điện áp tối đa: 60kV, 140mA, (tùy chọn 150mA). Ổn định đầu ra: ± 0,005% cho biến động đầu vào + 15% – -10%

– Khoang mẫu: Chiếu xạ tia X từ phía trên mẫu. Xoay mẫu ở tốc độ 60 vòng / phút (50 / 60Hz). Hướng mẫu: Điều chỉnh theo bước tăng 1 °

– Cỡ mẫu: đường kính 51mm / cao 38mm (tối đa)

– Bộ lọc tia X chính. Tự động trao đổi năm bộ lọc (Al, Ti, Ni, Zr, out)

– Khẩu độ: Tự động trao đổi năm khẩu độ (đường kính 0,5, 3, 10, 20, 30 mm)

– Phân tích tinh thể: LiF (200), PET, Ge, TAP theo tiêu chuẩn; LiF (220), SX-52, SX-1, SX-14, SX-48; SX-58, SX-76, SX-410

– Phạm vi góc quét: SC: 0 ° – 118 ° (2theta) PC: 7 ° – 148 ° (2theta)

– Tốc độ quét 2theta:

– Tốc độ ổ đĩa góc tối đa: 1200 ° / phút.

– Tốc độ quét liên tục: 0,1 ° – 300 ° / phút

– Bước quét: 0,002 ° – 1,0 °

– Độ tái lập vị trí dừng: Tốt hơn ± 0,0003 °

Hệ máy Quang phổ huỳnh quang tia X (XRF-1800)

Tính năng:

– Dùng để phân tích định tính, định lượng và để kiểm tra phân biệt hàm lượng và các nguyên tố cấu thành của mẫu.

– Máy có độ chính cao, phân tích nhanh chóng.

– Các mẫu có thể phân tích ở dạng miếng, chất lỏng và dạng bột.

– Được sử dụng trong lĩnh vực kiểm tra đo lường chất lượng, điện tử, dược phẩm, thực phẩm, hóa công nghiệp, khoáng sản địa chất và khảo cổ học.

**Các Thiết bị phụ trợ khác**
TT	Thiết bị/ Thông số	Chức năng chính	Hình ảnh
1	Máy làm mát tuần hoàn/ Model: RKE1500B-V-G2-SP; hãng Orion	– Dùng để làm mát cho hệ thống phân tích phổ huỳnh quang tia X bằng cách làm mát nước và đưa qua ống phóng tia X trong hệ thống. Nhiệt độ cho phép hoạt động là 20⁰C
2	Máy nghiền mẫu/ Model: HSM-100H; hãng HEZOG	– Dùng để chuẩn bị mẫu cho việc phân tích bằng phổ huỳnh quang tia X. Máy sử dụng phương pháp nghiền rung để nghiền nhỏ mẫu. Mẫu sẽ được nghiền nhỏ đến dưới 0,01mm.
3	Thiết bị cắt mẫu tự động	– Dùng để cắt nhỏ mẫu từ một khối lớn. – Hoạt động tự động với thông số cắt không đổi hoặc điều khiển quy trình cắt bằng phần mềm SMARTCUT – Tốc độ quay của đĩa cắt: 200-5000v/phút, gia tốc 50v/phút – Khoảng chiều dài cắt 0,25-200mm, gia số chiều dài 0,25mm – Có hệ thống cảnh báo làm việc an toàn – Có hệ thống làm mát tuần hoàn – Đường kính lớn nhất của mẫu 50mm
4	Thiết bị mài và đánh bóng tự động	– Dùng để mài và đánh bóng mẫu sau khi cắt. Sử dụng trong chuẩn bị mẫu cho phân tích XRF hoặc làm lát mỏng thạch học để soi dưới kính hiển vi. – Tốc độ mài từ 30 – 600 vòng/phút – Sử dụng khí nén để giữ mẫu khi mài – Có thể mài từ 1 – 6 mẫu, với các kích thước khác nhau 25mm; 30mm; 38mm và 40mm – Lực giữ mẫu có thể điều chỉnh tùy số lượng và loại mẫu, có thể hoạt động ở lực giữ mẫu bằng 0 đối với các mẫu dễ vỡ – Có chức năng tắt và ngừng điều khiển mềm.
5	Máy nung mẫu/Model: VFD3000/R; hãng Automated Fusion Technology	– Dùng để chuẩn bị mẫu cho việc phân tích bằng phổ huỳnh quang tia X. Mẫu sẽ được nung chảy và chuyển thành dạng thủy tinh hóa. Quá trình đốt sử dụng Gas, oxy và khí nén.